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中国第一台光刻机？
1974年9月、1975年12月、1977年1月先后召开关于全国大规模集成电路及基础材料攻关大会战会议。在这三年期间中国成功研制出了分布重复式光刻机、电子束曝光机，超纯水处理系统等一流水平的半导体设备。中科院半导体研究所1978年开始研制半自动接近式光刻机，1981年研制成功。中科院45所1985年研制出了分布式光刻机。这台分布式光刻机是中国光刻机的标杆也是中国光刻机的绝唱。
八十。
国产14nm芯片用什么光刻机？
荷兰阿斯麦尔公司的光刻机。
中芯国际14纳米芯片用的是荷兰阿斯麦尔公司的光刻机，可能还有少量日本的光刻机。目前全球只有四家公司能够制造光刻机，分别是荷兰阿斯麦尔、日本尼康和佳能、中国上海微电子。而中芯国际的光刻机是duv光刻机，荷兰阿斯麦尔的光刻机市场占有率在90%左右。上海微电子去年28纳米才通过技术检测和验证，目前还未有消息量产。所以中芯国际14纳米用的是荷兰阿斯麦尔光刻机。
国内光刻机真正龙头是谁？
科华微电子公司。
科华微电子公司是国内最大拥有并正常使用荷兰ASML光刻机的光刻胶公司。
? ? 定增用于智能制造生产研发基地建设项目、光刻机产业化项目。
? ? 公司光刻机产业化项目建成后主要用于生产光刻机成套装备，公司具备将业务延伸拓展至光刻机产线整体解决方案的技术实力。
昆山造出光刻机了吗？
没有，根据我所了解到的信息，昆山近年来正在逐渐成为中国半导体产业的重要制造基地之一，因此与半导体制造相关的设备、技术等领域正在得到越来越多的关注和发展。至于光刻机是否在昆山地区得到“制造”，我需要向您明确的是，光刻机是一种非常复杂和高科技的半导体制造设备，通常需要集合国际上的多方半导体技术和专业制造工艺，而目前有几家国内企业正在积极探索光刻机芯片的制造，并取得了不少进展。
然而，由于光刻机相关技术的专业性、机密性较高，且依赖于众多的共同创新和制造经验积累，因此对于光刻机的制造或研发，需要深入了解技术资料和发展动向，以更准确地回答相关的问题。
国产euv光刻机研发成功需要多少年？
可能还需要一段时间，三五年或者更久。现在的国产的光刻机，应该是已经到了14纳米的技术层面了，之前好像已经有上海的生产出来，所以剩下的时间需要再等等了。